粒度分布是粉體*的一種性質，也是決定粉體行為與屬性的重要物理性質。因此，在處理粉體時必須進行粒度分布的分析。常用的粒度分析儀有
涂料粒度分析儀、超聲粒度分析儀、消光法光學沉積儀及X射線沉積儀等，其中涂料粒度分析儀測量方便快捷、重現(xiàn)性高，能很好的測出樣品的粒度分布曲線和集中度，越是球狀顆粒，測量的越，因而廣泛適用于材料、化工、精細陶瓷、造紙、化妝品、冶金等以顆粒物作為生產原料的行業(yè)。
實現(xiàn)對1um以下及寬粒徑范圍(幾十納米到幾千微米)的樣品的測量是涂料粒度分析儀的技術關鍵，概況起來，目前有以下幾種技術和光路配置被采用：
1、多透鏡技術
多透鏡系統(tǒng)曾在二十世紀八十年代前被廣泛采用，它使用傅里葉光路配置即樣品池放在聚焦透鏡的前方，配有多個不同焦距的透鏡以適應不同的粒徑范圍。優(yōu)點是設計簡單，只需要分布于幾十度范圍的焦平面檢測器，成本較低。缺點是如果樣品粒徑范圍寬的時候需要更換透鏡，不同透鏡的結果需要拼合，對一些未知粒徑的樣品用一個透鏡測量時可能會丟失信號或對于由于工藝變化導致的樣品粒徑變化不能及時反映。
2、多光源技術
多光源技術也是采用傅里葉光路配置即樣品池在聚焦透鏡的前方，一般只有分布于幾十度角度范圍的檢測器，為了增大相對的檢測角度，使該檢測器能夠接收到小顆粒的衍射光信號，在相對于一光源光軸的不同角度上再配置一或第二激光器。這種技術的優(yōu)點是只需分布于幾十度角度范圍的檢測器，成本較低，測量范圍特別是上限可以比較寬。若要同時幾微米以下小顆粒的測量，需要更換短焦距的聚焦透鏡。另外，多透鏡系統(tǒng)在測量樣品時，不同的激光器是依次開啟，而在干法測量時，由于顆粒只能一次性通過樣品池，只有一個光源能被用于測量，所以一般采用多透鏡技術的干法測量的粒徑下限很難低于250納米。
希望上述內容能夠幫助大家更好的了解本分析儀。
